Pressemeldinger
Denne teksten er en oversettelse av den offisielle engelske versjonen av pressemeldingen, og den er kun ment som et referanseverktøy. Du finner detaljene og spesifikasjonene i den originale engelske versjonen. Dersom tekstene ikke stemmer overens, er det den originale engelske versjonen som gjelder.
FOR UMIDDELBAR UTGIVELSE nr. 3750
Sub-nanosekund-pulsert dyp-ultrafiolett lasersystem
TOKYO, 26. november 2024 – Mitsubishi Electric Corporation (TOKYO: 6503) kunngjorde i dag at de har utviklet, i samarbeid med Institute of Physical and Chemical Research (RIKEN) og Institute for Molecular Science (IMS) i National Institutes of Natural Sciences, et lasersystem med dyp-ultrafiolett (DUV) bølgelengde, kort puls* (sub-nanosekund) og høy energi som oppnår en utgangsenergi på 235 millijoule, pulsenergi av verdens høyeste klasse**. Det kompakte og bærbare lasersystemet har blitt installert i et eget område av RIKENs anlegg på IMS i Japan, der det vil bli brukt til akseleratorforskning og -utvikling.
Sub-nanosekund-pulser ble oppnådd ved å bruke en mikrobrikkelaser som kan generere ekstremt korte pulser, og høy energieffekt ble realisert ved å optimalisere strålediameteren. I tillegg implementeres den felles utviklede teknologien Distributed Face Cooling i en brikke med høy varmeavledning utviklet av RIKEN og IMS, noe som gjør at laseren i joule-klassen kan drives ved romtemperatur, i motsetning til konvensjonelle høyeffektslasere som krever kjøling ved lav temperatur.
Fremover vil Mitsubishi Electric fortsette å utvikle laserakselerasjonsteknologien og lasersystemminiatyriseringen, og dermed bidra til teknologisk innovasjon på en lang rekke områder.
Merk at pressemeldingene er riktige på publiseringstidspunktet, men de kan endres uten varsel.